仪器简介 主要用来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的，且会产生刻蚀作用。 主要配置 等离子体发生器、真空系统、气路系统、控制系统 关键指标 等离子体发生器：频率13.56MHz,功率0-1000W可调，自动阻抗匹配；质量流量计控制，气体流量0-200ml/min可调 主要功能 可用于清洗半导体晶圆、电路板、电子元件（如芯片、传感器）。 收费标准 院内250元/小时，校内院外325元/小时，校外425元/小时
