仪器简介

该系统适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜、扫描电镜制样、电极材料制备等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足高校的教学与科研工作。    

主要配置

真空腔体、分子泵、高真空阀、调压阀、机械泵、真空测量系统、气体流量计、磁控靶枪、冷水机    

关键指标

（1）真空度：极限真空＜2×10-5   Pa；

（2）沉积腔体：配水冷系统，保证基片台在连续使用过程中温度不超过120 ℃；

（3）溅射靶枪：与工件距离60-150 mm可调节，倾斜角度可调节（0-40°），可实现低气压镀膜（5×10-2 Pa）；

（4）样品尺寸：衬底基片最大4英寸；

（5）样品台：可旋转，基片旋转速度0-50rpm连续可调，配水冷样品台；

（6）膜厚均匀性：直径4英寸范围均匀性优于±3%，多靶共溅射时的均匀性误差优于±5%。    

主要功能

主要用于制备金属氧化物、氮化物、等多种纳米涂层材料，可以实现单层、多层、多元纳米复合薄膜材料的制备。    

收费标准

院内250元/小时，校内院外325元/小时，校外425元/小时