仪器简介 主要用于金属材料、非金属材料和纳米材料等多种材料的电子显微学研究，在高真空条件下对样品进行直接的超高分辨显微形貌观察。 主要配置 电子束曝光（EBL）。 关键指标 工作电压：100V--30kV；SEM二次电子像：0.8nm(15kV);1.0nm(1kV)。 主要功能 SEM像（二次电子像、背散射电子像）、EBL（电子束曝光）。 设备使用相关说明 校内：300元/小时 校外：400元/小时 应用案例 植物孢子 单向膜
