仪器简介
以 X 射线照射样品表面，测量光电子能量分布，获取表面元素组成、化学状态、电子结构等信息，非破坏性分析方法，灵敏度和分辨率高，探测深度浅。在材料科学、化学、物理学、生物学等多领域用于表面分析研究，如材料表面成分分析、化学键研究、表面反应机理探究等。
关键指标
真空系统分析室：真空腔为纯μ金属制造，真空度优于7.0×10-8Pa(即7.0×10-10 mbar)；分析室真空泵：独立的机械泵，分子涡轮泵及钛升华泵组合；进样及样品处理室：真空度优于7.0×10-7Pa(即7.0×10-9 mbar)；进样及样品处理室：完全独立的腔室，不与分析腔共用；有独立的闸板阀设计。超高真空监测装置：配置超高真空阴极离子规一套多功能样品停放台样品台：轴向：5轴样品台，即X、Y、Z移动、倾斜及旋转；移动范围：X方向150 mm，Y方向30mm，Z方向18mm；移动精度：1μm；倾斜范围：以水平方向为轴-90o~ +90o倾斜，变角精度1o
样本检测注意事项:
1、常规XPS谱图测试(只宽扫，不窄扫）
2、常规XPS谱图测试，包括宽扫和5个元素的窄扫（C1s加上其它4个）
3、使用Ar离子轰击清洗样品表面+常规谱图测试
4、使用Ar离子轰击来减薄样品表面+常规谱图测试
5、XPS 成像测试（选区和成像扫描）
6、XPS 深度剖析测试（Ar离子刻蚀加元素窄扫）
7、角分辨检测
8、UPS测试（价带谱和/或功函数）
9、ISS(离子散射谱）
主要功能
测定有机、无机物质的晶体结构，同时可获得样品的晶胞参数、键长，键角，构象，氢键，分子间的堆积作用等信息，可用于从分子结构出发设计分子器件、探索功能材料与结构的关系、新型催化剂的催化机理、纳米材料性能的解释、新型化合物的设计和表征提供重要的信息。
设备使用相关说明
校内：300元/样
校外：600元/样
应用案例
1kV He+激发的ISS谱，样品为Ag溅射污染的玻璃
10kV Ar1000+离子刻蚀深度剖析，样品为50层的有机布拉格反射器，整个刻蚀深度超过15μm
Ni 2p平行图像结合55um选区谱，获取自铌氧化物/镍钽氧化物图形化样品
高能量分辨使得SrRuO3钙钛矿样品重叠的芯能级识别与认定成为可能
